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ナノサイエンス・ナノテクノロジーの研究開発においては、何がしかの物質によって覆われた「埋もれた界面」を扱う必要があります。そこでは、非破壊的な研究手法であるＸ線・中性子反射率法および回折・散乱・分光技術が有用と考えられますが、現代の未解決問題に対応するためには、大幅な技術水準の引き上げを伴う高度化を達成することが必須の課題となっています。最近、迅速・ライブ計測、微小領域分析・ビジュアリゼーション（可視化）、新たな情報の質の獲得等の点での高度化が進んでおり、特に、Ｘ線技術については、高輝度シンクロトロン放射光源等の先端研究施設を用いた進展には目覚ましいものがあります。他方、わが国では、大強度陽子加速器施設J-PARCの物質・生命科学実験施設が2008年にパルス中性子の発生に成功しており、今後の新しい展開が期待されています。そして、こうした実験技術の進歩を実際の埋もれた界面研究に生かすために、理論的な研究との交流がこれまでになく重要になりつつあります。本ワークショップは、Ｘ線と中性子、実験と理論、あるいは半導体・電子材料からソフトマテリアル、バイオシステムに至る異なる応用分野間の交流を通し、埋もれた界面の諸問題の新たな解決との糸口を探ろうとするものであります。
本ワークショップでは、懇親会の後にも研究会を行うのが恒例になっており、主に大学院生やポスドク等、若手研究者の皆様に短い講演と活発な討論をお願いしております（追加募集中）。また、英文プロシーディングスも発行いたします（Transactions
of the Materials Research Society of Japan）
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