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4回講習会
「X線反射率による薄膜・多層膜の解析」 

 

 主催

 

(社)応用物理学会 埋もれた界面のX線・中性子解析研究会

 共催、協賛

 

(社)日本物理学会 他

 開催期日

 

2010年3月16日(火)

 開催場所

 

 東京大学工学部6号館(〒113-8654 東京都文京区本郷7-3-1) 地下鉄南北線「東大前」、地下鉄丸の内線・大江戸線「本郷3丁目」、地下鉄千代田線「根津」下車

 内容

 

X線反射率法は、薄膜・多層膜の深さ方向の内部構造、具体的には、各層の膜厚、密度、各界面のラフネス等を非破壊的に求めることができる解析技術です。本講習会では、X線反射率法の経験豊富な専門家を講師陣に迎え、基礎から丁寧に解説を行うとともに、シミュレーションやデータ解析の実習を少人数のグループにて、きめ細かく行ないます。 休憩時間には「X線反射率相談デスク」を設け、日頃の疑問に思っていることに、8名の専門家がお答えします。
教材として「X線反射率法入門」(講談社、5775円)を配布するほか (ご希望があれば、着払い宅急便にて事前送付も致します)、午前・午後のすべての講義に完全対応したレジュメを用意いたします。

 参加費

 

 19,000 円 (「X線反射率法入門」をお持ちの方は14,000円)

参加申込方法

 

Webで内容を確認の上、氏名(ふりがな)、所属、住所、TEL、FAX、e-mail、 初級・中級のコース別と実習コース(A, B, C)のご希望をご連絡下さい。折り返し受付の連絡と請求書の郵送をいたしますので、指定銀行へ入金をお願いします。入金完了をもって、参加申込み完了となります。

 連絡先

 

305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1 (独) 物質・材料研究機構 桜井健次 (TEL 029-859-2821、FAX 029-859-2801、e-mail sakurai@#-NO-SPAM-#yuhgiri.nims.go.jp)(メールアドレスは「#-NO-SPAM-#」を削除してご利用ください)

 その他

 

詳細http://www.nims.go.jp/xray/ref/TutorialXRR2010.htm