第6回シリコン材料の科学と技術フォーラム
(The 6th International Forum on the Science and Technology of Silicon Materials)

 主催

 日本学術振興会 結晶加工と評価技術・第145委員会
 および本フォーラム実行委員会

 共催、協賛

 多数（本フォーラムのホームページにリストアップさせて頂いています。)

 開催期日

 2010年11月14日(日)〜17日(水)

 開催場所

 岡山大学創立五十周年記念館(〒700-8530岡山市北区津島中1-1-1)

 内容

産学連携の強化と実質化，技術者・研究者の国際レベルでの交流， 次世代を担う若手の育成を目標に，LSI基板材料としてのシリコンと新規材料として 注目されているSiGeやSiCなどに関する科学と技術の最新研究に加え，LSI，センサー， 太陽電池，パワーデバイス，Siフォトニクス，Si MEMSなど幅広いデバイス応用に関する 研究発表を行い，全員参加の討論を行います．

 参加費

 30,000円(学生15,000円)(会員・非会員共通です。)

参加申込方法

本フォーラムのホームページをご参照下さい。

 連絡先

岡山大学大学院自然科学研究科　山下善文
電話/Fax 086-251-8231
電子メール siforum2010@#-NO-SPAM-#ms.elec.okayama-u.ac.jp
(メールアドレスは「#-NO-SPAM-#」を削除してご利用ください)

 その他

詳細はhttp://www.cse.oka-pu.ac.jp/siforum2010/ を参照下さい。