学術的会合 社団法人 日本物理学会 The Physical Society of Japan
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学術的会合
その他
主催
応用物理学会 薄膜・表面物理分科会
共催、協賛
日本物理学会、他2学協会協賛
開催期日
2011年12月9日(金)~10日(土)
開催場所
東京大学 生産技術研究所
〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1
TEL: 03-5452-6132
URL: http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html
内容
低・中・高エネルギーイオン散乱による固体表面・界面の分析、およびイオ
ンビームと固体表面との相互作用。招待講演:数件、一般講演:10数件
程度。
詳細はhttp://annex.jsap.or.jp/tfspd/activity/conf/index.html
を参照してください。プログラムなどは,決定次第掲載の予定です。
参加費
一般 2,000円、応用物理学会 薄膜・表面物理分科会会員 1,000円、
学生 無料
参加申込方法
講演を申し込まれる場合は、A4で1頁のアブストラクトと講演者氏名、連絡先を下記までe-mailでお送り下さい。
講演申込締切:2011年11月11日(金)
参加申込締切:2011年12月2日(金)
連絡先
東京大学 生産技術研究所 Markus Wilde
FAX: 03-5452-6159
TEL: 03-5452-6148
e-mail: wilde@#-NO-SPAM-#iis.u-tokyo.ac.jp
(メールアドレスは「#-NO-SPAM-#」を削除してご利用ください)